Niezwykle ambitne dążenia wykazywane przez Chiny do osiągnięcia samowystarczalności technologicznej w ostatnich latach są już praktycznie niezaprzeczalne. Jedną z najważniejszych w tym procesie rzeczy, której krajowi temu nie udało się jak dotąd opracować, są urządzenia litograficzne dorównujące tym oferowanym przez firmę ASML. Ich brak znacznie hamuje rozwój krajowego przemysłu półprzewodnikowego i powoduje, że Państwo Środka wciąż musi polegać na zewnętrznych dostawcach w celu zaspokojenia swoich potrzeb. Dyrektor generalny firmy Nvidia, Jensen Huang, uważa jednak, że Chiny opracują własne zaawansowane systemy litograficzne już za około cztery lata – do 2030 roku włącznie.
Jensen Huang przestrzega nas przez rozwojem technologicznym Chin
W wywiadzie z The All-In Podcast, Jensen Huang bez cienia wątpliwości stwierdził, że Chiny osiągną swój cel do 2030 roku.
Rok 2030 jest tuż za rogiem. O Chinach należy myśleć w ten sposób, że są naprawdę dobre w produkcji na dużą skalę. To tylko kwestia czasu […] więc dwa lub trzy lata to mgnienie oka – to nic. Z ich punktu widzenia są już na miejscu
Jensen Huang w wywiadzie z The All-In Podcast
Jak podaje serwis Tom’s Hardware, dyrektor generalny firmy Nvidia znany jest już ze skłonności do optymistycznego postrzegania rozwoju technologicznego Chin. W szczególności znany jest z tego, że określa chiński przemysł sztucznej inteligencji jako „tuż za” amerykańskimi pionierskimi laboratoriami, co może być słuszne, biorąc pod uwagę, jak duże środki finansowe Chiny inwestują w sztuczną inteligencję. Jednak jeśli chodzi o chiński przemysł półprzewodników w ogóle, a zwłaszcza o sektor litografii, Huang wydaje się być trochę zbyt optymistyczny.
Rzeczywistość wydaje się być jednak jeszcze trochę daleka od jego twierdzeń
Z dostępnych informacji wynika, że obecnie wiodący chiński producent urządzeń litograficznych — firma Shanghai Micro Electronics Equipment — jest w stanie masowo produkować systemy ArF o długości fali 193 nm, które mogą być wykorzystywane do wytwarzania układów scalonych w technologii procesowej klasy 90 nm. Chociaż według niektórych doniesień firma opracowała już także skaner immersyjny ArF obsługujący technologię 28 nm, to nie ma publicznie dostępnych dowodów na to, że systemy tego typu są produkowane przez Chiny na dużą skalę i wykorzystywane do masowej produkcji układów scalonych.
Tom’s Hardware zauważa, że Chiny pozostają znacznie w tyle także w dziedzinie litografii w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV). Chociaż pojawiają się pewne doniesienia, że chińskim naukowcom udało się rzekomo opracować laserowe źródło plazmy, które może generować światło o długości fali 13,5 nanometra wymagane do tej technologii, nie wygląda na to, by Chiny były bliskie samodzielnego skonstruowania nawet prototypu systemu EUV.
Słusznym spostrzeżeniem zatem jest, że jeśli Chiny wciąż borykają się z problemami związanymi z wdrożeniem tych technologii w zakresie immersyjnego DUV, nie ma powodu, by zakładać, że w jakiś sposób udało im się je rozwiązać na znacznie bardziej wymagającym poziomie EUV. Biorąc jednak pod uwagę potencjalnie egzystencjalną stawkę wyścigu w dziedzinie sztucznej inteligencji oraz determinację chińskiego rządu w dążeniu do samowystarczalności technologicznej, może to rzeczywiście być tylko kwestią czasu.
0 komentarzy